Руководитель Zeiss: Китаю нужно ещё 15 лет для создания передового оборудования для чипов
Глава подразделения полупроводников немецкой компании Zeiss оценивает, что Китаю потребуется около 15 лет для разработки собственных систем EUV-литографии для производства современных микросхем — оценка совпадает с выводами аналитиков UBS.
Франк Ромунд, руководитель полупроводникового подразделения немецкой Zeiss Group, заявил в эфире Bloomberg TV, что Китаю потребуется примерно 15 лет для создания собственных систем экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии, необходимых для производства самых современных микрочипов.
По словам Ромунда, оценка в полтора десятилетия является "обоснованным предположением", хотя реальные темпы прогресса Пекина оценить сложно. Zeiss выступает эксклюзивным поставщиком оптики для EUV-систем нидерландской компании ASML Holding NV, которая остаётся единственным в мире производителем такого оборудования. Эта технология критически важна для выпуска чипов, используемых в ускорителях для искусственного интеллекта.
Успехи Китая в DUV-технологиях
Ромунд отметил, что Китай десятилетиями работает над системами глубокой ультрафиолетовой (DUV) литографии и уже добился определённых успехов. По его словам, это не стало неожиданностью, и теперь важно посмотреть, насколько эффективным окажется это оборудование на практике. При этом он подчеркнул, что Zeiss и ASML сохраняют значительный технологический отрыв.
В настоящее время компоненты Zeiss используются при производстве около 80% микрочипов в мире. Чтобы удовлетворить растущий глобальный спрос, компания расширила свою штаб-квартиру в Оберкохене и увеличила производственные мощности.
Ужесточение экспортных ограничений
Оценка Ромунда прозвучала после публикации отчёта аналитиков швейцарского банка UBS, которые пришли к выводу, что Китаю, вероятно, потребуется ещё как минимум десять лет для разработки собственной технологии EUV.
Технологии производства микрочипов стали одним из ключевых объектов санкционной политики США, поскольку Вашингтон стремится ограничить способность Китая создавать самые современные чипы для обучения передовых моделей искусственного интеллекта. В 2018–2019 годах правительство Нидерландов под давлением США заблокировало экспорт в Китай передовых EUV-систем ASML. В октябре 2022 года США усилили давление, запретив всем китайским производителям логических микросхем доступ к передовому оборудованию. В конце 2023 и начале 2024 года экспортные ограничения были расширены ещё больше: Нидерланды запретили ASML поставлять в Китай даже часть менее современного оборудования на базе DUV-литографии.
